Pemesinan laser tepat substrat seramik nitrida aluminium

Pemprosesan Laser Presisi Substrat Seramik Nitrida Aluminium 04

Pemesinan laser tepat substrat seramik nitrida aluminium 03

Pemesinan laser tepat substrat seramik nitrida aluminium 02

Pemprosesan laser tepat substrat seramik nitrida aluminiumkelebihan

Teknologi pemesinan laser berketepatan tinggi melibatkan pemanasan laser terhad pada permukaan bahagian kerja yang akan diproses, menyebabkan bahan di kawasan sasaran menjadi lembut dan mengubah kekuatan hasilannya kepada nilai yang lebih rendah daripada kekuatan rapuhnya. Ini menukarkan mekanisme penyingkiran bahan daripada retakan rapuh kepada deformasi separa plastik, sekaligus mengubah mekanisme penyingkiran bahan yang jika tidak akan mengakibatkan retakan rapuh pada suhu bilik, dan dengan itu mencapai objektif pemesinan berkesan tinggi dan berketepatan tinggi bagi substrat seramik nitrida aluminium.

Kategori: 氮化铝陶瓷零件

Hubungi kami

Keterangan

Keterangan

Pemprosesan Laser Tepat pada Substrat Seramik Nitrida Aluminium

Kelebihan pemesinan laser tepat pada substrat seramik nitrida aluminium

Dengan menerapkan pemanasan laser terfokus pada permukaan bahagian kerja yang akan diproses, bahan di kawasan sasaran dilembutkan dan kekuatan hasilannya dikurangkan ke tahap di bawah kekuatan rapuhnya. Ini mengubah mekanisme penyingkiran bahan daripada keretakan rapuh kepada deformasi kuasi-plastik, sekaligus mengubah mekanisme penyingkiran bahan yang jika tidak akan mengakibatkan keretakan rapuh pada suhu bilik, dan dengan itu mencapai objektif pemesinan seramik nitrida aluminium yang cekap tinggi dan tepat tinggi.

Aplikasi Seramik Nitrida Aluminium

Seramik nitrida aluminium (AlN) mempunyai kekonduksian terma yang tinggi dan sifat penebat elektrik, menjadikannya sesuai untuk pelbagai peranti elektronik. Dengan kekonduksian terma melebihi 170 W/(m·K), nitrida aluminium menunjukkan ketahanan kejutan terma yang cemerlang dan boleh beroperasi dalam persekitaran suhu tinggi sehingga 2200°C. Oleh itu, produk seramik nitrida aluminium merupakan pilihan ideal untuk pelbagai industri, seperti:

Pemanas dan penyejuk haba
Substrat pembungkusan elektronik
Substrat dan penebat untuk peranti mikroelektronik dan optoelektronik
Komponen pengurusan terma laser
Penebat elektrik
Perlengkapan logam lebur

Sifat Asas Seramik Nitrida Aluminium

Aluminium nitrida (AlN) adalah sebatian kovalen, kristal atom, nitrida seperti berlian, tergolong dalam sistem kristal heksagon dengan struktur kristal sphalerite. Ia tidak toksik dan kelihatan putih atau kelabu-putih.

Konduktiviti terma yang tinggi (>170 W/m·K), hampir dengan BeO dan SiC, dan lebih lima kali ganda berbanding Al₂O₃;
Gejala pemuaian terma yang sepadan dengan Si dan GaAs;
Sifat elektrik yang cemerlang (pemalar dielektrik, rugi dielektrik, rintangan isipadu, ketahanan dielektrik);
Memiliki sifat mekanikal yang sangat baik, dengan kekuatan lenturan melebihi seramik alumina dan oksida barium; mampu disinter pada tekanan atmosfera.
Ia boleh dihasilkan menggunakan proses filem tuang dan merupakan substrat serta bahan pembungkusan yang sangat menjanjikan untuk litar bersepadu berkuasa tinggi.

Pembekal seramik nitrida aluminium

Zhi Hao Ceramics adalah pembekal seramik pakar dengan pengalaman luas dalam pembuatan komponen seramik presisi berkualiti tinggi. Dengan memanfaatkan pasukan kami yang berpengalaman dan kepakaran mendalam dalam bahan seramik, kami menyediakan produk seramik presisi optimum kepada pelanggan kami pada harga yang sangat kompetitif.